AOI LIGHTING INSIGHT|宸軒科技最新消息

高指向性外同軸光源在 AOI 應用之重要性

當邊緣暈開、灰階漸層或鏡面反射讓演算法難以判定,高指向性外同軸光源可利用更集中、接近平行的光路,將微小高低差與表面瑕疵轉換為較穩定的明暗差異。

平行同軸光AOI 光源邊緣檢測微小瑕疵
高指向性外同軸光源以平行光路檢測晶圓表面與精密邊緣的 AOI 意象圖高指向性外同軸光 × AOI
外同軸光源、分光光路、工業鏡頭與晶圓檢測平台整合意象圖

內容總結

  • 它是什麼:高指向性外同軸光源,又稱平行同軸光,可將出射光控制在較窄且一致的角度範圍。
  • 解決什麼:有助於改善高反射工件的邊緣暈開、灰階漸層與細微缺陷對比不足。
  • 適用對象:晶圓、玻璃基板、液晶面板、拋光金屬與高反射電子零件等 AOI 應用。

採購快問快答

  • 能完全消除反光嗎?不能保證;它的價值是建立更穩定、可預測的反射光路。
  • 只看亮度能選型嗎?不建議,應同時評估工作距離、視野、鏡頭 NA、相機及產線節拍。
  • 可以客製嗎?可依視野、波長、機構空間、頻閃及控制介面評估。

為什麼傳統擴散同軸光容易讓邊緣模糊?

結論是:多角度光線容易同時照亮斜面、倒角與高度差區域,使真正的幾何邊界被亮暗漸層包圍,增加二值化與尺寸判定難度。

01

邊緣暈開

倒角或微小斜面將不同角度的反射光送入鏡頭,輪廓由清楚邊界變成寬廣漸層。

02

閾值不穩

亮暗範圍隨工件姿態與表面狀態改變,演算法需要更寬容的閾值,也更容易誤判。

03

量測波動

邊緣座標不穩定時,位置判定、精密尺寸量測與自動對焦的重複性可能下降。

擴散同軸光與高指向性外同軸光比較

高指向性並非所有 AOI 的唯一答案。選型重點是讓光學特性與缺陷機制、工件材質及設備限制相互匹配。

比較項目傳統擴散同軸光高指向性外同軸光/平行同軸光採購與驗證重點
出射角度包含較多方向的光線,照明容忍度較高光線方向較集中、接近平行確認工作距離、有效視野與同軸度
邊緣表現斜面與倒角可能形成較寬灰階漸層有助形成較清楚的明暗轉換以邊緣銳利度與量測重複性比較
淺缺陷表現多方向光可能填補缺陷區亮度對局部反射角度改變較敏感使用極限樣品確認缺陷對比度
安裝敏感度相對容易取得均勻照明對同軸度、鏡頭及工件姿態較敏感不得只比較標示亮度或外觀尺寸
適合情境一般平面觀察、容忍度較寬的外觀檢查精密邊緣、淺刮痕、微小凹痕與高反射表面最終以實際樣品測試結果決策

實物比較:宸軒科技製作與日本品牌參考光源

下圖呈現兩款外同軸光源的實物與機構尺寸配置,可作為設備空間、出光口、安裝方式與線材方向評估的溝通基礎。

高指向性外同軸光源實物比較,左側為宸軒科技製作,右側為日本品牌參考光源
高指向性外同軸光源實物比較:左側為宸軒科技製作,右側為日本品牌參考光源。

比較說明:本照片用於外觀、機構與設備整合溝通,不代表在不同檢測條件下的絕對性能結論。實際成像效果應在相同相機、鏡頭、曝光、增益、工作距離及樣品條件下驗證。

平行同軸光如何凸顯極淺刮痕與微小凹痕?

極淺刮痕、壓痕或微小崩角,往往只造成微幅表面角度變化。當缺陷讓反射光偏離鏡頭接收方向,影像便可能形成較明顯的暗線或暗區。

局部角度變化

缺陷改變表面法線方向,使原本回到鏡頭的反射光產生偏移。

灰階差異放大

方向集中的光路減少周圍雜散光補亮,使缺陷與正常背景較容易分離。

演算法更好判讀

較穩定的明暗差異有助於邊緣提取、定位、尺寸量測及缺陷分類;實際能力仍依光學與樣品條件而定。

高指向性外同軸光能完全消除鏡面反光嗎?

不能把「高指向性」理解成保證消除反光。它主要建立較穩定、可預測的入射與反射關係,減少不必要的雜散光與眩光,讓正常區與缺陷區更容易分離。

影響因子為什麼重要建議確認資料
工件反射率與粗糙度決定鏡面反射、散射及缺陷灰階表現材質、表面處理、良品與缺陷樣品
鏡頭 NA 與工作距離影響可接收角度、解析力及視野鏡頭型號、視野、WD、空間限制
相機動態範圍影響亮區飽和與暗部細節保留相機型號、曝光、增益、幀率
光源同軸度與安裝偏心或傾斜可能造成區域亮度不均機構圖、安裝方向、出光口位置
頻閃與散熱高速產線需兼顧曝光能量、節拍與長時間穩定性Trigger、Duty、線速、連續/頻閃模式

AOI 導入高指向性外同軸光源的 5 步驗證法

光源選型應用實際影像與量測數據決策。以下流程可降低只看規格亮度、卻忽略缺陷機制與設備條件的風險。

準備代表性樣品

至少包含良品、已知缺陷品與接近允收極限的樣品,並標示刮痕、凹痕、崩角或輪廓位置。

固定成像條件

固定相機、鏡頭、工作距離、光圈、曝光與增益,避免把參數差異誤判為光源差異。

建立對照測試

在相同條件下比較擴散同軸光與高指向性外同軸光,保留原始影像與參數紀錄。

量化影像品質

比較缺陷對比度、邊緣銳利度、灰階均勻性、量測重複性,以及實際漏檢與誤判情形。

確認量產相容性

將線速、曝光時間、頻閃控制、散熱、機構空間與長時間運轉條件納入驗證。

良品、缺陷品、極限樣品齊全
相機與鏡頭參數固定
記錄缺陷對比與邊緣銳利度
執行重複拍攝與位置變動測試
確認曝光、頻閃與設備節拍
核對安裝空間、線材與散熱

哪些工件適合優先評估?

晶圓與玻璃基板

可評估邊緣崩角、淺刮痕、局部凹痕及精密輪廓;需同步確認透明、反射與鍍膜特性。

面板與高反射電子零件

適合針對鏡面區域、金屬電極、端子與細微高度差建立穩定成像條件。

拋光金屬與精密加工件

可評估刀痕、壓痕、微小缺口與尺寸邊界;曲面或複雜幾何可能需搭配其他角度光源。

為什麼由宸軒科技協助 AOI 打光評估?

光源不是孤立零件,而是相機、鏡頭、機構、控制與檢測演算法之間的成像介面。宸軒科技以精密加工與自動化整合思維,從樣品與缺陷目標回推可執行的光學方案。

20+ 年專業經驗與精密製造累積
200+ 家海內外國際級客戶服務經驗
精密加工機構、尺寸與光路整合能力
自動化整合Trigger、控制與設備介面評估

可客製項目與實際性能須依樣品、視野、波長、工作距離、設備節拍及核准圖面評估;本文不構成特定檢出率或量測精度保證。

常見問題 FAQ

高指向性外同軸光源和平行同軸光是同一種光源嗎?產業上常將可把出射光整理成較窄角度、接近平行光路的外同軸光源稱為高指向性外同軸光或平行同軸光。不同產品的光學結構、有效視野與指向性仍可能不同,需以實際規格與測試確認。

高指向性外同軸光一定比一般同軸光好嗎?不一定。它較適合精密邊緣、淺缺陷與高反射表面,但也可能對安裝同軸度、工件姿態及鏡頭搭配更敏感。一般平面照明或需要較寬容成像時,擴散同軸光仍可能更合適。

高指向性外同軸光可以完全消除鏡面反光嗎?不能保證完全消除。它有助於建立穩定、可預測的反射光路;最終表現仍取決於工件反射率、表面粗糙度、鏡頭 NA、工作距離、相機動態範圍及安裝同軸度。

AOI 光源選型前需要提供哪些資料?建議提供良品、缺陷品與極限樣品,並附上缺陷尺寸與位置、視野、工作距離、相機與鏡頭型號、曝光時間、線速、安裝空間、波長偏好及控制介面需求。

宸軒科技可以客製外同軸光源尺寸與控制方式嗎?可依有效視野、機構空間、工作距離、波長、亮度、連續或頻閃模式、Trigger 與設備控制介面進行工程評估。正式規格與性能以核准圖面及實際樣品測試結果為準。

先看見真正的缺陷,再決定光源規格

如果您的 AOI 正面臨邊緣模糊、鏡面反光、淺刮痕對比不足或量測結果不穩定,請提供樣品照片、缺陷位置、視野與設備條件。宸軒科技將以 20 年以上經驗、精密加工與自動化整合能力,協助建立可驗證、可量產的打光方向。

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